欧洲单晶圆湿法清洗制程设备供应商SEZ Group日前宣布,一家来自韩国的存储器制造商已向SEZ订购了多套其Da Vinci（TM）系列清洗设备.该客户经过初步的试用,对该设备的性能非常满意,从而发出了这份价值不菲的订单.据悉,这些设备搭载了SEZ先进的稀释过氧化硫（DSP+）化学试剂,将被用于采用90nm制程、在300mm和200mm晶圆上制造的存储器器件的生产线后段聚合物去除工艺. 获得该订单对SEZ来说可谓是里程碑式的胜利,因为这代表着SEZ进入了该存储器制造商的生产线后段的清洗制程,同时加强了SEZ在韩国的市场地位.这在某种程度上也表明,包括韩国的制造商在内,半导体行业主要制造商从批处理湿法制程转向单晶圆湿法制程的步伐在继续加快,因为后者实现了更为复杂的小尺寸集成电路制造所要求的日益严苛的表面污染控制,能够为客户提高成品率,降低成本. SEZ亚太区首席运营官Herwig Petschng指出,此次能够赢得该顶级存储器制造商客户的认可并为其提供设备,对SEZ来说意义重大.这不仅意味着我们在韩国市场又获得了一个新的客户,也进一步证明我们的Da Vinci系列产品在性能和拥有成本两方面都能满足客户的需求. 据悉,自SEZ在2003年推出Da Vinci系列清洗设备以来,该产品已获得了业界的广泛认可,截至2006年第四季度累计出货量已突破140台.Da Vinci平台是SEZ与其关键客户通过紧密合作开发出的产品,采用了一种灵活的多腔构架,占地面积小,吞吐量大,准确度高.特别是该系统采用了DSP+这样的酸性水溶配方,清洗效果有了很大的改进,顺应了器件电路尺寸缩小和新产品面世时间缩短的趋势. 目前,SEZ在韩国有30台以上的使用DSP+化学试剂的Da Vinci设备在各制造商的生产线上运行.SEZ在韩国单晶圆清洗设备市场处于领先地位,而韩国市场对SEZ来说也是至关重要.2005年,来自该市场的收入翻了一番；2006年,SEZ在该地区的销售额占据了公司销售总额的约15%.