以行业为导向并聚焦识别与缩短技术差距的国际电子制造创始组织（iNEMI）计划召开三场地区研讨会，为行业回顾2009年蓝图的编制进展创造良机。

北美研讨会定于5月14日在iNEMI的美国维吉尼亚赫登总部举行。欧洲研讨会将于6月18日在比利时Leuven校际微电子研究中心（IMEC）举行；亚洲研讨会定于7月28日在中国上海举行。

国际电子制造创始组织的蓝图规划总监ChuckRichardson说：这些研讨会使行业能够抢先预览新蓝图。各技术工作组（TWG）对迄今取得的结论和预测提供了报告。

同时，技术工作组还能够获得宝贵的行业反馈，并做出必要的中期修正，从而改进最终蓝图预测。每场研讨会的报名费是300美元（国际电子制造创始组织成员和研讨会发言人可免费参加）。

费用不仅包含参加研讨会，而且还包含一顿欧式早餐和午餐，以及一张国际电子制造创始组织2009年蓝图拷贝光盘（2009年3月公布）（北美地区售价250美元；其它地区售价325美元）。

北美研讨会北美研讨会是一场全天会议，定于5月14日上午8点至下午5点30分举行，面向行业、政府和专业机构开放。（国际电子制造创始组织成员无须参加研讨会）。

会议日程将包括由蓝图的大部分技术工作组（TWG）提供的演讲，以及讨论章节手稿，内容涵盖具体技术与基础设施领域。国际电子制造创始组织在每个蓝图编制周期都会根据行业现状以及哪些变化可能对电子制造业造成最重大影响，来确定蓝图将涵盖的主题。2009年蓝图覆盖与技术、基础设施和商业流程相关的22个领域，并新增了固态照明、无线射频识别（RFID）产品标签和光伏章节。增添这些主题是为了响应行业对于潜在增长领域的机遇和技术需求的更大关注。报名截止日期是5月8日。

欲知有关美国研讨会的更多信息，或欲报名参加，请访问http://www.inemi.org/cms/calendar/2009_RM_NA_May08.html。

欲知有关2009年国际电子制造创始组织蓝图的更多信息，包括地区研讨会，请访问http://www.inemi.org/cms/roadmapping/2009_Roadmap.html。

关于国际电子制造创始组织蓝图自1994年以来，国际电子制造创始组织详细规划了全球电子行业的未来制造技术需求，以识别必需的主要技术和基础设施发展，确保供应链在未来十年保持竞争力。

国际电子制造创始组织蓝图已被公认为定义电子业前沿技术和新兴颠覆性技术的重要工具。它还可帮助确定未来十年的研发优先顺序，并被全行业及政府基金会和大学研究机构采纳。