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ZESTRON在NEPCON China 2011将展出新型清洗剂――ATRON® AC 207
点击:9495来源: fbe-china.com作者:EM Asia China
时间:2019-11-22 13:01:35

世界著名清洗剂和清洗工艺供应商ZESTRON将在于2011年5月11至14日在上海光大会展中心所举办的NEPCON上海展(展位号2C01)展出新型清洗剂ATRONAC207。ATRONAC207基于FAST技术,特别为满足敏感金属材料兼容性而研发。与传统清洗剂相比较,其清洗剂使用寿命可以延长3-10倍并且能够在较低应用浓度和温度下完美的清洗基板上的残留物。

ATRONAC207可以去除各类新型无铅助焊剂残留物以及未焊接的焊锡膏。FAST技术全称是快速表面活性剂技术,它是ZESTRON对传统表面活性剂的创新升级,并且由ZESTRON在2007年正式推向市场。所有基于FAST技术的清洗剂均包含新型表面活性剂,它使清洗剂能够更快速的去除各类新型无铅和含铅的助焊剂残留物。

若希望了解更多ATRONAC207或FAST技术的信息,请参观我们位于NEPCON上海的展位(2C01)或访问网站www.ZESTRON.com。

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