作为全球范围内领先的电子制造业精密清洗产品、清洗服务及清洗方案供应商，ZESTRON日前参与了2012 SMTA槟城高科技论坛并发表专题讲座，本次东南亚电子组装技术研讨会在马来西亚槟城Eastin酒店召开，从2012年4月18日持续至4月20日。
4月19日，ZESTRON东南亚地区高级工艺工程师GT Yeoh发表了DI水与化学清洗剂：有效去除OA助焊剂残留的清洗对比实验研究专题讲座。虽然当前国际电子制造业领域仍然主要依赖DI水来清除OA助焊剂的清洗工艺，最近的研究却发现，水的清洗能力已达到了最大限度，这促使了化学清洗剂为辅的清洗工艺被大量采用。Yeoh研究了DI水的清洗能力限度并解释了何时应当必要地在清洗工艺中引入化学清洗剂。
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