在8月28日到8月31日于深圳会展中心举办的2007年华南NEPCON展览会上，DEK将在2G11号展台上展示其为速度和微型化设计的Photon RTC平台。 Photon RTC将向观众展示其在同一个平台上实现了杰出的微型化和速度。Photon为当前SMT装配商提供了下一代工艺能力，实现了杰出的产出量、精度和速度。

在配备DEK的快速输送导轨(RTC)技术时，Photon实现了无可比拟的核心转换时间，只需短短四秒，而不管其它工艺变量如何。 Photon实现了先进的技术指标，包括公认的行业标准工艺功能及不到10分钟的新产品设置时间，而不会降低稳定性或可重复性。Photon优化的印刷机框架拥有固有的张力和热量稳定性，为可重复的高良品率和杰出的快速生产速率提供了支持。在华南NEPCON展览会DEK展台上，观众还将看到Photon采用突破性的DEK技术所带来的优势。

其中它采用ProFlowDirEKt挤压印刷技术，这个多次屡获的封闭式印刷头技术节约了成本，提供其它工艺优势。此外，Photon RTC还将展示DEK公司屡获大奖的Cyclone网底清洁技术，与传统网底清洁技术相比，其清洁时间缩短了一半。 Photon RTC为当前SMT装配商提供了下一代工艺功能，进一步体现了DEK公司期待更多的企业理念。